헥사 메틸 디 실란 C6H18SI2 CAS 1450-14-2

헥사 메틸 디 실란은 알릴 아세테이트, 아릴 할리 드 및 디케 톤을위한 실릴 리 레이팅 시약으로 작용합니다. 실리콘 카바이드 성장 동안 증기 증착을위한 소스 재료입니다. 전자 및 반도체 산업에서도 사용됩니다.

애플리케이션:

헥사 메틸 디 실란은 나트륨 트리메틸 실란, 칼륨 트리메틸 실란 및 리튬 트리메틸 실란을 합성 할 수있는 중요한 실란 보호제입니다.
요오드리 메틸 실란의 제조.
트리메틸 실란 음이온 시약으로 사용됩니다.
PD 촉매 또는 친핵체와 함께 실릴 레이팅 또는 감소 시약.
[RHCL (COD)] 2의 존재하에 방향족 니트릴을 TMS 그룹으로 대체합니다.
실리콘 카바이드의 CVD에 대한 선구자.
PD2 (DBA)의 존재 하에서 ansesulfonyl 클로라이드의 호모 커플 링을 가져옵니다.
플루오로 아로마 틱스의 직접적인 보리 링을위한 용매로 사용됩니다.
알킨과 반응하여 실올을 형성합니다.
아실 실란을 제공하기 위해 산 염화물의 실릴 화를 겪습니다.

제품 이름 : Hexamethyldisilane
동의어 : Hexamethyldisilane; HMD; DISILANE M6; (CH3) 6SI2; 1,1,1,2,2,2- 헥사 메틸 다이 실란; CH7280; DISILANE, HEXAMETHYL-; HECAMETHYLLDISILANE
녹는 점 9-12 ° C (Lit.)
끓는점 112-114 ° C (Lit.)
25 ℃에서 밀도 0.715 g/ml (Lit.)